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侵權案纏訟多年 聯電、美光和解落幕


(台北二十七日電)晶圓代工廠聯電與美商記憶體大廠美光經過纏訟多年,昨雙方宣布達成全球和解協議,將各自撤回向對方提出的訴訟,同時聯電將向美光一次支付金額保密的和解金,雙方並將「共創商業合作機會」;聯電表示,支付多少和解金無法透露,但對財務不會有重大影響,預計第四季財報中認列。

Q4財報認列 聯電:不會影響財務

半導體業界認為,美光與聯電達成和解協議,展現台美合作的誠意,對聯電更是利空出盡的好事。隨雙方釋出善意達成和解,加上聯電今年前三季已大賺近四百億元,應有能力付出一次性和解金,如今不確定變數解除,聯電可望回歸專注本業。

對於聲明中提到「雙方並將共創商業合作機會」,聯電表示,這是和解內容,合作方式後續會展開討論,有明確將會對外揭露;業界揣測聯電可望與美光進行邏輯晶片、記憶體異質整合、赴美合資建廠與投資技術研發中心等都是可行方式。

中國缺乏DRAM技術,五年多前,聯電宣布與中國福建晉華合作共同開發DRAM製程,由晉華出資,委由聯電在南科廠開發製程技術,再移轉給晉華量產,並延攬美光旗下的瑞晶前總經理陳正坤任聯電副總經理,再派到晉華任總經理,也有不少原任職台灣美光的主管與工程師跳槽到聯電。這樁似很划算的合作開發案,因美中科技戰,雙方合作被迫中止,聯電也因此惹上官司。

從二○一七年起,美光陸續對聯電提告,在美國控告聯電侵害營業秘密,聯電則在中國反告美光子公司侵害專利權。聯電也被美光在台灣提告民事案,目前在台灣的智財法院審理中,不過隨著雙方和解可望撤回;至於依違反營業秘密法的刑事案,聯電連帶被判罰金新台幣一億元,雖無法撤回,但程序也可望善了。

聯電去年十月遭美國司法部起訴違反營業秘密案,並獲美國北加州聯邦地方法院判決確定,聯電承認侵害一項營業秘密,同意被罰六千萬美元(約新台幣十七點三億元)並緩刑三年,換取與美國司法部合作的和解協議。

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